特許
J-GLOBAL ID:200903022157324666
フォトレジストのリサイクリング方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐伯 憲生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-148209
公開番号(公開出願番号):特開平11-133619
出願日: 1998年04月22日
公開日(公表日): 1999年05月21日
要約:
【要約】【課題】本発明はフォトレジスト溶液の再利用方法に関するものである。例えばスピンコーティングによるなど支持体上にフォトレジストを塗布する従来の方法では、レジストの大部分はウエーハーから回転により振り落とされる。【解決手段】本発明により、塗布工程から得られた過剰なフォトレジスト溶液が集められ、その固体含有量が塗布組成物として使用するに適するように調整される。その後で、粒子および汚染物質が溶液から除去される。次に、そのフォトレジストが支持体上に塗布されるために再利用される。
請求項(抜粋):
フォトレジスト溶液の使用方法であって、支持体上に該フォトレジストを塗布する工程;該フォトレジスト溶液の過剰分を該塗布工程から集める工程;該過剰フォトレジスト溶液の固体含有量を塗布組成物としてフォトレジストの使用に適する濃度に調整する工程;溶解汚染物質をフォトレジスト溶液から除去する工程、および、該フォトレジストを表面に塗布する工程、からなるフォトレジスト溶液の使用方法。
IPC (3件):
G03F 7/16
, G03F 7/26
, H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/16
, G03F 7/26
, H01L 21/30 564 Z
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