特許

J-GLOBAL ID：200903022177593132

平面研磨装置

発明者： 永元 信裕
出願人/特許権者： ニチデン機械株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-010176
公開番号（公開出願番号）：特開2000-210864
出願日： 1999年01月19日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
要約：

【要約】【課題】 汎用の平面研磨装置で2段階研磨をなるべく高速に行なう。【解決手段】 移送ステーション61と、それを取り巻くように配置された4個所のポリシングステーション53と、それぞれ独立に動く4個のウェーハヘッド52と、各ウェーハヘッド52のそれぞれに対応して設けられた洗浄ステーション56とを備え、移送ステーション61では各ウェーハヘッド52がウェーハ50の乗せ替を行ない、ポリシングステーション53にはそれぞれ回転プラーテンを有しており、ウェーハヘッド52は下面にウェーハ50を吸着保持して上下動自在であると共に、自転可能で且つポリシングステーション53の内の隣り合う2個所と移送ステーション61と洗浄ステーション56とにアクセス可能である。そして隣り合うウェーハヘッド52がそれぞれアクセス可能な2個所のポリシングステーション53の内の1個所を共有するように順次配置される。

請求項（抜粋）：

移送ステーションと、それを取り巻くように配置された複数個所のポリシングステーションと、前記ポリシングステーションと同数個であってそれぞれ独立に動くウェーハヘッドと、各ウェーハヘッドのそれぞれに対応して設けられた洗浄ステーションとを備え、前記移送ステーションはそこに研磨される板状材が供給され、そこで前記ウェーハヘッドがその板状材を受け取ると共に研磨処理済みの板状材をそこに返してそこから取り出されるものであり、前記ポリシングステーションはそれぞれ回転プラーテンを有しており、前記ウェーハヘッドは下面にウェーハを吸着保持して上下動自在であると共に、ポリシングのために自転可能で且つ前記ポリシングステーションの内の隣り合う2個所と前記移送ステーションと洗浄ステーションとにアクセス可能なように水平動可能に設けられ、且つ隣り合うウェーハヘッドがそれぞれアクセス可能な2個所のポリシングステーションの内の1個所を共有するように順次配置され、前記洗浄ステーションは前記ウェーハヘッドが板状材を吸着保持した状態で配置されて洗浄するためのものであることを特徴とする平面研磨装置。

Fターム (12件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA16 ,  3C058AA18 ,  3C058AB01 ,  3C058AB03 ,  3C058AB04 ,  3C058AB06 ,  3C058AC05 ,  3C058BC02 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17