特許
J-GLOBAL ID：200903022180603726
超短パルス電子回折装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
清水 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-289154
公開番号（公開出願番号）：特開2002-098655
出願日： 2000年09月22日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：
【要約】【課題】 フエムト秒領域での試料の分子構造の変化の実時間追跡を可能にすることができる超短パルス電子回折装置を提供する。【解決手段】 超短パルス電子回折装置において、超短パルスレーザー光発生装置1と、この超短パルスレーザー光発生装置1からの超短パルスレーザー光が照射される陰極3と、この陰極3から発生する電子パルスeを加速し、短い電子パルスeを得る加速装置4と、前記短い電子パルスeを試料ガス6に作用させる相互作用領域(相互作用部)5と、この相互作用領域5における電子回折像を観測する手段とを具備する。
請求項（抜粋）：
(a)超短パルスレーザー光発生装置と、(b)該超短パルスレーザー光発生装置からの超短パルスレーザー光が照射される陰極と、(c)該陰極から発生する電子パルスを加速し、短い電子パルスを得る加速装置と、(d)前記短い電子パルスを試料に作用させる相互作用部と、(e)該相互作用部における電子回折像を観測する手段とを具備することを特徴とする超短パルス電子回折装置。
Fターム (17件)：
2G001AA03
, 2G001AA07
, 2G001BA08
, 2G001BA18
, 2G001CA03
, 2G001DA01
, 2G001DA09
, 2G001FA21
, 2G001GA01
, 2G001HA12
, 2G001HA13
, 2G001JA11
, 2G001JA14
, 2G001KA08
, 2G001MA01
, 2G001MA05
, 2G001SA02
