特許
J-GLOBAL ID:200903022183276807

マスクおよび露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-197865
公開番号(公開出願番号):特開2000-031019
出願日: 1998年07月13日
公開日(公表日): 2000年01月28日
要約:
【要約】【課題】 周辺部を吸着して搬送する際にも周辺を損傷させることなく、また水平に載置した際にも結像特性を低下させず、さらにはアライメントマークを容易に検出する。【解決手段】 パターンを有したパターン部18と、パターンが形成されていない非パターン部19とを有するマスク6において、非パターン部19のうち、マスクの搬送に用いられる部分を覆うカバー部21を設けた。
請求項(抜粋):
パターンを有したパターン部と、該パターンが形成されていない非パターン部とを有するマスクにおいて、前記非パターン部のうち、前記マスクの搬送に用いられる部分を覆うカバー部を設けたことを特徴とするマスク。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 1/14
FI (3件):
H01L 21/30 503 D ,  G03F 1/14 Z ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (13件):
2H095BA01 ,  2H095BB29 ,  2H095BB37 ,  2H095BE03 ,  2H095BE11 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC06 ,  5F046CC09 ,  5F046CD02 ,  5F046DA06
引用特許:
審査官引用 (4件)
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