特許

J-GLOBAL ID：200903022189113314

X線反射型マスク

発明者： 和佐 若菜 ,  清水 澄人 ,  村上 勝彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-098426
公開番号（公開出願番号）：特開平8-293450
出願日： 1995年04月24日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：

【要約】【目的】 経時変化による多層膜の反射率低下を防止したX線反射型マスクを提供すること。【構成】 少なくとも、基板上1に設けたX線反射多層膜2と、さらに該多層膜2上に所定パターンにて設けたX線吸収層3とを有するX線反射型マスクにおいて、前記多層膜2及び吸収層4の上に、化学的または物理的に安定な物質、或いは光学定数の経時変化が小さい物質の被覆層4を形成してなることを特徴とするX線反射型マスク。

請求項（抜粋）：

少なくとも、基板上に設けたX線反射多層膜と、さらに該多層膜上に所定パターンにて設けたX線吸収層とを有するX線反射型マスクにおいて、前記多層膜及び吸収層の上に、化学的に安定な物質、或いは光学定数の経時変化が小さい物質の被覆層を形成してなることを特徴とするX線反射型マスク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G21K 1/06

FI (3件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G21K 1/06 B

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭63-067731
  
• 特開昭63-021830
  
• 特開平3-136313
  
• 特開平4-207016