投影露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平木祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-125055
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306823
出願日： 1996年05月20日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】フォーカス・エラーの発生頻度を低減し、不良率の低減を図る。【解決手段】多点AF系の複数の計測点から得られる各計測値をグループ分けして重み付けすることでプロセス毎に最適のフォーカス検出方法を設定できるようにし、また、計測に失敗した計測点があった場合のエラー処理を複数のアルゴリズムの中から選択できるようにしてエラー処理もプロセス毎に最適化できるようにする。計測に失敗した計測点があった場合、ステップ16から選択したエラー処理アルゴリズムに従う処理(S17又はS18)に進み、処理を継続する。

請求項（抜粋）：

マスクのパターンを所定の結像面内に結像投影する投影光学系と、前記結像面とほぼ平行に感光基板を保持して前記結像面と平行な面内で2次元移動するXYステージと、前記感光基板を前記投影光学系の光軸方向に移動させるZステージと、前記投影光学系の投影視野内の予め定められた複数の位置に計測点を有し、前記複数の計測点の夫々で検出された前記感光基板表面の光軸方向の位置に基づいて前記感光基板の面位置を検出する面位置検出手段とを備える投影露光装置において、前記面位置検出手段は、前記複数の計測点を複数のグループに分けるグループ化手段と、前記グループ化手段によってグループ化されたグループ毎に計測値を算出し、その計測値に夫々重み係数を掛けて前記感光基板の面位置を算出する演算手段と、前記計測点での計測に失敗した場合のエラー処理を選択するエラー処理選択手段を備えることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 526 B , G03F 7/20 521

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