特許

J-GLOBAL ID：200903022209994584

チタニウム含有複合物を研磨するための合成物およびその方法

発明者： ワン ホイ ミン ,  ウ グアングウエイ ,  クック リー メルボルン
出願人/特許権者： ローデル ホールディングス インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 辻本 一義
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-508826
公開番号（公開出願番号）：特表2001-500188
出願日： 1998年07月07日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】チタニウム含有基板のケミカル-メカニカル-ポリッシングに有用な水性スラリーを提供する。この水性スラリーは、水、サブミクロン研磨粒子、酸化剤、および、モノ-、ジ-またはトリ-置換フェノールであってその置換作用基の少なくとも一つが極性を有するものから成る。合成物には、シリカの除去速度を抑制する化合物を適宜含むものとすることができる。このスラリーは、さらに、タングステン、アルミニウムまたは銅を含有する基板に有用である。

請求項（抜粋）：

チタニウム含有基板のケミカル-メカニカル-ポリッシングに有用な水性 スラリーであって、水、サブミクロン研磨粒子、酸化剤、および、モノ-、ジ -またはトリ-置換フェノールであって、その置換作用基の少なくとも一つが 極性を有するものからなる合成物。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622

FI (4件)：

C09K 3/14 550 D ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 Z ,  H01L 21/304 622 D