特許

J-GLOBAL ID：200903022226706657

焦点検出手段を有したアライメントスコープ

発明者： 篠永 浩彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-027133
公開番号（公開出願番号）：特開平5-190424
出願日： 1992年01月17日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】 半導体製造用の投影露光装置においてマスク(レチクル)とウエハーの相対的位置合わせを高速、高精度に行うことができる焦点検出手段を有したアライメントスコープを得ること。【構成】 第1物体4面上のパターンを投影光学系2を介して第2物体5面上に投影露光する際の該第1物体と第2物体との相対的位置関係を検出するアライメントスコープであって、光束を該第2物体面上の複数の測定領域の1つに照射し、該測定領域からの反射光束を検出することにより該測定領域での該投影光学系の焦点位置を検出する際、該複数の測定領域からの反射条件が各々略等しくなるように該光源手段からの光束を該測定領域に入射させたこと。

請求項（抜粋）：

第1物体面上のパターンを投影光学系を介して第2物体面上に投影露光する際の該第1物体と第2物体との相対的位置関係を検出するアライメントスコープであって、光源手段からの光束を該第2物体面上の複数の測定領域の1つの測定領域に斜め方向から照射し、該測定領域からの反射光束の光路の変化を検出することにより該測定領域での該投影光学系の焦点位置を検出する際、該複数の測定領域からの反射条件が各々略等しくなるように該光源手段からの光束を該測定領域に入射させたことを特徴とする焦点検出手段を有したアライメントスコープ。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-207520
  
• 特開昭63-090825
  
• 特開平3-246411