特許
J-GLOBAL ID:200903022226781217
遷移金属錯体の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-208259
公開番号(公開出願番号):特開2007-217397
出願日: 2006年07月31日
公開日(公表日): 2007年08月30日
要約:
【課題】各種分野で有用な遷移金属錯体を容易に製造することができる新規遷移金属錯体の製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式(II)の有機部分の化合物を、QqM1A1mLnで表される化合物と反応させて、下記一般式(II)で表される遷移金属錯体を製造する方法において、該反応系にM2jA2kで表される化合物を存在させる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式(I)で表される化合物を、下記一般式(i)で表される化合物と反応させて、下記一般式(II)で表される遷移金属錯体を製造する方法において、
該反応系に下記一般式(ii)で表される化合物を存在させることを特徴とする遷移金属錯体の製造方法。
IPC (1件):
FI (2件):
C07F15/00 E
, C07F15/00 F
Fターム (14件):
4C063AA01
, 4C063BB02
, 4C063CC25
, 4C063CC26
, 4C063CC76
, 4C063CC94
, 4C063DD08
, 4C063DD25
, 4C063DD26
, 4C063EE05
, 4H050AA02
, 4H050BE62
, 4H050WB11
, 4H050WB21
引用特許:
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