特許

J-GLOBAL ID：200903022230221650

レジスト剥離液管理装置

発明者： 中川 俊元 ,  塚田 光三 ,  小川 修 ,  宝山 隆博 ,  西嶋 佳孝
出願人/特許権者： 株式会社平間理化研究所 ,  長瀬産業株式会社
代理人 (1件)： 塩出 真一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-193005
公開番号（公開出願番号）：特開平10-022261
出願日： 1996年07月02日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：

【要約】【課題】 半導体製造工程や液晶基板製造工程においてレジスト剥離に用いられるレジスト剥離液の管理装置において、レジスト剥離液品質を一定に制御し、かつ液使用量の削減、操業停止時間の減少及びコストの低減を図る。【解決手段】 レジスト剥離液の溶解レジスト濃度を吸光光度計16により検出してレジスト剥離液を排出するレジスト剥離液排出手段と、レジスト剥離液の液面レベルを液面レベル計3により検出してレジスト剥離原液と純水とを補給する第一補給手段と、レジスト剥離液の水分濃度を吸光光度計15により検出してレジスト剥離原液及び純水の少なくとも一方を補給する第二補給手段とを備えるように構成する。

請求項（抜粋）：

レジスト剥離原液と純水とを供給して一定液面レベルに保つ液面調節・補給手段と、このレジスト剥離処理槽内のレジスト剥離液の水分濃度を吸光光度計により検出してレジスト剥離原液及び純水の少なくとも一方を補給する補給手段とを備えたことを特徴とするレジスト剥離液管理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/306 J ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 D

引用特許：

審査官引用 (1件)

• レジスト剥離液管理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-333249   出願人：株式会社平間理化研究所, 長瀬産業株式会社