特許
J-GLOBAL ID：200903022236563960
半導体装置の製造方法及び位置合わせ用装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-343273
公開番号（公開出願番号）：特開平6-168868
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：
【要約】【構成】 可視領域に吸収を持つ色素を含む着色膜の位置合わせについて、?@位置合わせ用光源2として赤外領域の光1を用いる。?A位置合わせ用光源として赤、青、緑の3色の光の内少なくとも2色の光、またはシアン、イエロー、マゼンタの3色の光の内少なくとも2色の光を含む光を用いる。【効果】 カラーレジストを用いる半導体装置の製造プロセス等においても、各種の色の着色膜の位置合わせが可能であって、よって工程の複雑化を避けることができる。
請求項（抜粋）：
可視領域に吸収を持つ色素を含む着色膜の位置合わせを行う工程を備える半導体装置の製造方法において、位置合わせ用光源として赤外領域の光を用いることを特徴とする半導体装置の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 311 M
, H01L 21/30 311 S
