特許

J-GLOBAL ID：200903022247028160

ウエハの静電吸着装置

発明者： 大倉 英一郎 ,  豊田 正人 ,  大寺 廣樹 ,  岡村 康一郎
出願人/特許権者： 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社 ,  三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-210089
公開番号（公開出願番号）：特開平6-061336
出願日： 1992年08月06日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：

【要約】【目的】 ウエハ処理に当り、試料台のウエハ固定位置以外の部分とウエハとの間に静電場が発生するのを防ぐ。【構成】 試料台1の誘電体膜2上に載置されたウエハ3の固定位置以外の部分を、Al2O3・SiC等からなる絶縁体カバー6で覆ったものである。【効果】 ウエハ固定位置以外の部分はAl2O3・SiC等からなる絶縁体カバーにより覆われているので、この絶縁体カバーが、直流電圧印加時に発生する静電場を緩和する役目を果たし、その結果、試料台のウエハ固定位置以外の部分とウエハの間に発生する静電場を弱くすることができる。

請求項（抜粋）：

試料台のウエハ固定面側に誘電体膜を形成し、この誘電体膜上にウエハを載置し、上記試料台に直流電圧を印加することにより、上記誘電体膜を介してウエハを静電的に固定する静電吸着装置において、上記ウエハの固定位置以外のウエハ周辺部までの部分を覆う静電場緩和用絶縁体カバーを備えたウエハの静電吸着装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H02N 13/00