特許
J-GLOBAL ID:200903022250844670
レーザを用いた表面処理方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
林 敬之助
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-335354
公開番号(公開出願番号):特開平9-181013
出願日: 1995年12月22日
公開日(公表日): 1997年07月11日
要約:
【要約】【課題】 被処理表面全体に亙って均一な処理を実現すること。【解決手段】 被処理部材7の表面7aにエキシマレーザを照射して所要の処理を施すための表面処理方法において、表面の任意の一方向に沿う処理幅Aをカバーする長さで幅の狭い帯状のエキシマレーザビームBを形成し、このエキシマレーザビームBによって表面7aを一方向と異なる方向Xに沿って所定のピッチで走査し、これにより表面7aを一回の走査で処理する。
請求項(抜粋):
被処理部材の表面にエキシマレーザを照射して所要の処理を施すための表面処理方法において、前記表面の任意の一方向に沿う処理幅をカバーする長さで幅の狭い帯状のエキシマレーザビームを形成し、このエキシマレーザビームによって前記表面を前記一方向と異なる方向に沿って所定のピッチで走査し、これにより前記表面を一回の走査で処理することを特徴とするレーザを用いた表面処理方法。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L 21/268 Z
, H01L 21/20
前のページに戻る