特許

J-GLOBAL ID：200903022255287086

基板の洗浄方法

発明者： 板野 充司 ,  毛塚 健彦 ,  陶山 誠
出願人/特許権者： ダイキン工業株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-003883
公開番号（公開出願番号）：特開平8-195369
出願日： 1995年01月13日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【構成】 基板、特にシリコンウエハ基板から、アンモニア-過酸化水素水洗浄、超純水リンス、フッ化水素酸洗浄、及び超純水リンスにより付着粒子を除去する際に、フッ化水素酸、及び要すればアンモニア-過酸化水素水混合液にアニオン系界面活性剤を添加する。【効果】 アンモニア-過酸化水素水洗浄工程で一旦脱離した粒子がフッ化水素酸洗浄工程で再吸着しないので、粒子除去率が著しく向上する。

請求項（抜粋）：

(1)アンモニア-過酸化水素水洗浄、(2)超純水リンス、(3)フッ化水素酸洗浄、及び(4)超純水リンスにより基板から付着粒子を除去する基板の洗浄方法において、フッ化水素酸にアニオン系界面活性剤を添加することを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (7件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/08 ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/395 ,  C23F 1/16 ,  C23G 1/02