特許
J-GLOBAL ID：200903022269175620
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-239785
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087294
出願日： 1997年09月04日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：
【要約】【課題】 基板への処理液の再付着を抑制し処理の仕上がり精度を向上させる。【解決手段】 スピンチャック1に保持された基板Wを取り囲むように案内部材30が昇降自在に配置されている。案内部材30には上方に向かうほど径が小さくなる傾斜部31a、31bがその内壁面に形成され、その傾斜部31a、31bの上端部に気体取り込み口32a、32bが形成されている。スピンチャック1の上方には雰囲気遮断部材60がスピンチャック1に対して接離自在に配置されている。基板Wへの処理は、スピンチャック1に保持された基板Wの高さ位置HWに案内部材30の傾斜部31a(31b)を位置させ、スピンチャック1に保持された基板Wの上面と雰囲気遮断部材60との間の間隔をWBにして、気体取り込み口32a(32b)の中央部分を雰囲気遮断部材60で塞いで行う。
請求項（抜粋）：
基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板を鉛直方向の軸芯周りで回転させる基板回転手段と、前記基板保持手段に保持された基板を取り囲むように設けられ、前記基板回転手段によって回転される基板から飛散する処理液を受け止めて下方の排液口に案内する内壁面を有し、上方に向かうほど径が小さくなる傾斜部が前記内壁面に形成されているとともに、その傾斜部の上端部に気体を取り込む気体取り込み口が形成されている案内部材と、前記基板保持手段の下方に設けられ、前記気体取り込み口により取り込まれた気体を排気する排気口と、前記基板保持手段の上方に配置され、前記案内部材の気体取り込み口よりも小さい径を有し、前記基板保持手段に保持された基板の上面に対向する対向面から前記基板上面の回転中心付近に処理液を供給する処理液供給部を備えた雰囲気遮断部材と、前記基板保持手段と前記案内部材とを相対的に昇降させる昇降手段と、前記雰囲気遮断部材を前記基板保持手段に対して相対的に接離させる接離手段と、処理液により基板を処理する際、前記基板保持手段に保持された基板の高さ位置に前記案内部材の傾斜部が位置するように前記昇降手段を制御する昇降制御手段と、処理液により基板を処理する際、前記基板保持手段に保持された基板の上面と所定間隔隔てて前記雰囲気遮断部材を配置させるように前記接離手段を制御する接離制御手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, B08B 3/08
, B08B 3/10
H01L 21/304 341 N
, B08B 3/08 B
, B08B 3/10 Z
