特許

J-GLOBAL ID：200903022308071196

ナノ構造体およびその製造方法

発明者： 秋田 靖浩 ,  新間 聡 ,  関 隆広 ,  永野 修作
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (2件)： 藤田 考晴 ,  上田 邦生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-347310
公開番号（公開出願番号）：特開2006-150536
出願日： 2004年11月30日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：

【課題】 二次元的に広がった均質なナノ構造を有するナノ構造体および安価で簡便なプロセスによって行うことができるナノ構造体の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 親水性セグメントおよび疎水性セグメントを有する両親媒性ブロックコポリマーと、前記疎水性セグメントと相溶性を有する低分子化合物とを含有する混合溶液を水面に展開して単分子膜を得る。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

親水性セグメントおよび疎水性セグメントを有する両親媒性ブロックコポリマーと、 前記疎水性セグメントと相溶性を有する低分子化合物とを含有する混合単分子膜からなるナノ構造体。

IPC (3件)：

B82B 1/00 ,  B82B 3/00 ,  G11B 5/84

FI (3件)：

B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  G11B5/84 Z

Fターム (6件)：

5D112AA02 ,  5D112AA19 ,  5D112AA20 ,  5D112AA24 ,  5D112BA01 ,  5D112BA09