特許
J-GLOBAL ID：200903022308260100
陽極電解酸化処理によるアナターゼ型酸化チタン皮膜の製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (7件)：
三枝 英二
, 掛樋 悠路
, 小原 健志
, 斎藤 健治
, 藤井 淳
, 関 仁士
, 中野 睦子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-053609
公開番号（公開出願番号）：特開2005-240139
出願日： 2004年02月27日
公開日（公表日）： 2005年09月08日
要約：
【課題】 本発明の目的は、アナターゼ型酸化チタンの形成量が多く、光触媒や光電変換素子等として有用であるアナターゼ型酸化チタン皮膜を製造する方法を提供すること 【解決手段】 以下の工程を経て、アナターゼ型酸化チタン皮膜を製造する:(i)チタン又はチタン合金の表面にチタン窒化物を形成する工程、及び(ii)チタンに対してエッチング作用を有する無機酸及び該作用を有する有機酸よりなる群から選択される少なくとも1種の酸を含有する電解液中に、上記工程(i)で得られたチタン又はチタン合金を浸漬し、火花放電発生電圧以上の電圧を印加することにより陽極酸化を行う工程。 【選択図】なし
請求項（抜粋）：
以下の工程を含む、アナターゼ型酸化チタン皮膜の製造方法:
(i)チタン又はチタン合金の表面にチタン窒化物を形成する工程、及び
(ii)チタンに対してエッチング作用を有する無機酸及び該作用を有する有機酸よりなる群から選択される少なくとも1種の酸を含有する電解液中に、上記工程(i)で得られたチタン又はチタン合金を浸漬し、火花放電発生電圧以上の電圧を印加することにより陽極酸化を行う工程。
IPC (6件)：
C25D11/26
, B01J35/02
, C23C4/10
, C23C8/24
, H01L31/04
, H01M14/00
C25D11/26 302
, B01J35/02 J
, C23C4/10
, C23C8/24
, H01M14/00 P
, H01L31/04 Z
4G069AA08
, 4G069BA48A
, 4G069BB02A
, 4G069BC50A
, 4G069BC50B
, 4G069BD02A
, 4G069BD02B
, 4G069BD06B
, 4G069DA05
, 4G069EA12
, 4G069EC25
, 4G069FA03
, 4G069FB02
, 4G069FB11
, 4K028AA02
, 4K028AB02
, 4K028AC07
, 4K028AC08
, 4K031AA06
, 4K031AB11
, 4K031CB46
, 4K031DA01
, 4K031DA03
, 4K031DA04
, 4K031DA07
, 5F051AA14
, 5H032AA06
, 5H032AS06
, 5H032AS16
, 5H032BB02
, 5H032BB05
, 5H032BB07
, 5H032EE01
, 5H032EE02
