特許
J-GLOBAL ID：200903022321148351
電子ビーム描画装置および描画方法並びに半導体装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤島 洋一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-317474
公開番号（公開出願番号）：特開平11-149893
出願日： 1997年11月18日
公開日（公表日）： 1999年06月02日
要約：
【要約】【課題】 1.0μm未満の極微細領域においてもビームサイズ補正を高精度に行うことができると共に、長手方向の依存性によるパターン間寸法差の発生も解消することができる電子ビーム描画装置および描画方法を提供する。【解決手段】 ビームサイズ制御手段102によって、基準サイズ規定手段101により規定された基準サイズ(絶対寸法)を基準としてビームサイズの縦幅および横幅がそれぞれ一次元に変化する。これら一次元変化の組み合わせにより、ビームサイズが二次元的に変化(疑似的変化)する。電流量測定手段103により、ビームサイズの二次元的変化に対応して電流量が測定され、この電流量から測定値が見積もられる。ずれ量演算手段104によって、測定値の設定値に対するずれ量が各設定値毎に演算され、定数最適値演算手段105により、設定値毎のずれ量が最小になるように、または試料に転写されるパターンサイズに合うようにビームサイズ補正式の定数の最適値が算出される。この最適値がビームサイズ補正式にフィードバックされる。
請求項（抜粋）：
試料表面に照射される断面矩形状の電子ビームの縦幅および横幅をそれぞれ寸法を変えて任意に設定可能であると共に、縦幅および横幅の補正値がそれぞれ縦幅および横幅の2つの設定値の関数であるビームサイズ補正式に基づいて電子ビームの縦幅および横幅をそれぞれ補正する機能を有するビームサイズ設定手段と、基準サイズを規定する基準サイズ規定手段と、ビームサイズの縦幅および横幅を前記基準サイズを基準としてそれぞれ一次元に変化させ、これら一次元変化を様々に組み合わせてビームサイズが二次元的に変化するように前記ビームサイズ設定手段を制御するビームサイズ制御手段と、ビームサイズの縦幅および横幅の各設定値が変化する毎に、その電流量を測定する電流量測定手段と、この電流量測定手段により測定される電流量からビームサイズの縦幅および横幅の各設定値に対応する測定値を見積もり、この測定値の設定値に対するずれ量を各設定値毎に演算するずれ量演算手段と、このずれ量演算手段により得られる各設定値毎のずれ量が最小になるように、または試料に転写されるパターンに合うように前記ビームサイズ補正式の定数の最適値を求め、この最適値を前記ビームサイズ補正式にフィードバックさせる定数最適値演算手段とを備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置。
IPC (4件)：
H01J 37/04
, H01J 37/147
, H01J 37/305
, H01L 21/027
H01J 37/04 A
, H01J 37/147 C
, H01J 37/305 B
, H01L 21/30 541 E
, H01L 21/30 541 Q
