特許
J-GLOBAL ID：200903022321666352
有機EL層形成方法、有機EL層形成装置、および有機ELディスプレイパネル用基板とこれを用いたディスプレイ装置ないし電子機器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-016566
公開番号（公開出願番号）：特開2004-228006
出願日： 2003年01月24日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：
【課題】均一な膜厚に有機EL層を形成するために、インクジェット法による有機ELディスプレイ装置用のディスプレイパネル用基板への有機EL層形成方法で、有機EL材料の吐出条件、乾燥処理等の条件を調整しながら有機EL層を形成する方法、ならびに該有機EL層を形成する方法を実施するための有機EL層形成装置を提供する。【解決手段】インクジェット法による有機ELディスプレイ装置用のディスプレイパネル用基板への有機EL層形成方法であって、有機ELディスプレイパネル用基板上に形成された有機EL層に紫外光を照射し、蛍光像を観察して、あるいは、蛍光強度を計測することにより、前記形成された有機EL層の層膜厚及び層膜厚分布を測定して、有機EL材料の吐出条件、及び有機ELディスプレイパネル用基板上に配設された有機EL材料の処理条件を調整し、調整された条件下で有機EL層を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
インクジェット法によりノズル等の吐出口から溶液化された有機EL材料を吐出し、且つ、吐出口とステージ上に載置された有機ELディスプレイパネル用基板とを相対的に移動することによって、有機ELディスプレイパネル用基板に有機EL材料を配設し、有機ELディスプレイパネル用基板に有機EL材料から所望の有機EL層を形成する、有機ELディスプレイ装置用のディスプレイパネル用基板への有機EL層形成方法であって、前記有機ELディスプレイパネル用基板上に形成された有機EL層に紫外光を照射し、蛍光像を観察して、観察結果に基づいて、有機EL材料の吐出条件、及び有機ELディスプレイパネル用基板上に配設された有機EL材料の乾燥等の処理条件を調整し、調整された条件下で有機EL層を形成することを特徴とする有機EL層形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
