特許

J-GLOBAL ID：200903022326716730

研磨用基布および研磨方法

発明者： 三村 正久 ,  田中 学
出願人/特許権者： 帝人株式会社
代理人 (1件)： 前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-369738
公開番号（公開出願番号）：特開2002-172555
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月18日
要約：

【要約】【課題】 磁気記録媒体等の表面にテクスチャー加工等の精密研磨を行う際に、研磨条件の変動で基盤表面に深い溝(スクラッチ)を生じない均一に研磨できる研磨用基布を提供すること。【解決手段】 20本以上の極細繊維が収束してなる繊維束からなる繊維質基材とその空隙に高分子弾性体を充填してなる複合体である基布であって、該繊維束において中心から半径1/2の範囲の極細繊維の平均直径d1が0.3〜10μmであり、外周部の極細繊維の平均直径d2が0.05〜1μmであり、d1がd2の1.5倍以上であり、かつ高分子弾性体の繊維質基材に対する重量比率が10/90以上である研磨用基布。

請求項（抜粋）：

繊維質基材とその空隙に高分子弾性体を充填してなる複合体である基布であって、繊維質基材を構成する繊維が20本以上の極細繊維が収束してなる繊維束を構成しており、該繊維束において中心から半径1/2の範囲に存在する極細繊維の平均直径d1が0.3〜10μmであり、外周部に存在する極細繊維の平均直径d2が0.05〜1μmであり、d1がd2の1.5倍以上であり、かつ高分子弾性体の繊維質基材に対する重量比率が10/90以上であることを特徴とする研磨用基布。

IPC (2件)：

B24B 37/00 ,  G11B 5/84

FI (3件)：

B24B 37/00 C ,  B24B 37/00 H ,  G11B 5/84 A

Fターム (11件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  5D112AA02 ,  5D112BA03 ,  5D112BA06 ,  5D112GA09 ,  5D112GA13 ,  5D112GA14