特許
J-GLOBAL ID：200903022335143247
ITO膜の形成方法及び液晶表示素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 孝久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-075832
公開番号（公開出願番号）：特開平5-242745
出願日： 1992年02月28日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：
【要約】【目的】ITO膜の結晶化を十分進行させ、且つITO膜中に含まれる酸素のばらつきを無くしあるいは少なくすることができ、これによって安定した特性を有するITO膜を形成し得るITO膜の形成方法、及びかかるITO膜の形成方法を適用した液晶表示装置の製造方法を提供する。【構成】ITO膜の形成方法は、スパッタリング法によって成膜されたITO膜30上に水素を含有する膜32を形成した後、熱処理することを特徴とする。あるいは又、スパッタリング法によって成膜されたITO膜を水素ガス雰囲気中で熱処理することを特徴とする。また、このITO膜の形成方法を適用して液晶表示装置の画素電極を形成する。
請求項（抜粋）：
スパッタリング法によって成膜されたITO膜上に水素を含有する膜を形成した後、熱処理することを特徴とするITO膜の形成方法。
IPC (5件)：
H01B 13/00 503
, C23C 14/58
, G02F 1/1343
, G09F 9/30 337
, H01B 5/14
