特許
J-GLOBAL ID：200903022342327744
光シャッター及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-346293
公開番号（公開出願番号）：特開平5-181097
出願日： 1991年12月27日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：
【要約】【目的】 透光性を有しかつ電気光学特性を示す基板を用いた光シャッターであって従来より薄板化された光シャッターとその製造方法とを提供すること。【構成】 PLZT基板11の表裏両面に、アミノ基を有する両親媒性分子のLB膜12を形成する。このLB膜12を介してビオチン21を基板11に結合させる。このビオチン21の不要部分に電子線、レーザーまたは紫外線を照射する。この際基板両面上の細線が互いに直交する様に所望の線幅、間隔でビオチンの活性領域を細線状に残存させる。次に該ビオチン21の細線パターンに金コロイドを有するアビジンをアビジンとビオチンとの特異的結合を利用して結合させる。これにより、基板表裏両面に金細線が所定間隔で並置された構成の、電極を兼ねる偏光子33が形成できる。
請求項（抜粋）：
透光性を有しかつ電気光学特性を示す基板の表裏各々の面に、金属細線を所定間隔で並置した構成の電極を兼ねた偏光子を具えたことを特徴とする光シャッター。
IPC (2件)：
G02F 1/055 505
, G02B 5/30
