特許

J-GLOBAL ID：200903022359790090

基板自動処理乾燥装置

発明者： 丸井 宏之
出願人/特許権者： 株式会社カイジョー
代理人 (1件)： 羽切 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-280029
公開番号（公開出願番号）：特開平8-121964
出願日： 1994年10月19日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【目的】 フィルターの性能を合理的に発揮せしめてその塵埃除去効率を向上させると共に、吸引される様々な塵埃に起因する不都合な諸事象の発生を回避した基板自動処理乾燥装置を提供すること。【構成】 加熱手段43の上流側に粗フィルター42を、下流側に精密フィルター44をそれぞれ配設し、以て、上記の効果を得ている。

請求項（抜粋）：

基板に対して処理液を用いて所要の処理を施す処理手段と、該処理液が付着した該基板を加熱気体を以て乾燥させる乾燥手段と、前記基板を前記処理手段及び乾燥手段を巡るべく搬送する搬送手段とを備え、前記乾燥手段は、供給される気体を乾燥させるべき基板に向けて案内する案内手段と、該案内手段により形成される気体案内路中に設けられて各々気体の清浄化、加熱を行う2つのフィルター及び加熱手段とを有し、該フィルター各々が該加熱手段を挾んで前記気体案内路の上流側と下流側に配置されていることを特徴とする基板自動処理乾燥装置。

IPC (4件)：

F26B 21/04 ,  B08B 3/00 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-151835
  
• 乾燥機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-335376   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-099880   出願人：日本電装株式会社