特許
J-GLOBAL ID：200903022361514431

塩基性ガス吸着材および塩基性ガス含有排ガスの処理方法

発明者：
北口 真也

北口 真也 について

, 
藤田 卓志

藤田 卓志 について


出願人/特許権者：
株式会社日本触媒

株式会社日本触媒 について


代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-102628
公開番号（公開出願番号）：特開2001-286751
出願日： 2000年04月04日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：
【要約】【課題】 低濃度且つ大容量の塩基性ガス含有排ガスを処理するに際して、この排ガス中に含まれる塩基性ガスを選択的に吸着除去し、しかも比較的低温で再生して繰り返し使用することのできる塩基性ガス吸着材、およびこうした吸着材を用いて塩基性ガス含有排ガスを処理する為の有用な方法を提供する。【解決手段】 A成分としてTiおよびSiからなる二元系複合酸化物、TiおよびZrからなる二元系複合酸化物、並びにTi、SiおよびZrからなる三元系複合酸化物のいずれか1種以上のTi系複合酸化物を80質量部以上、B成分としてVの酸化物を1質量部以上20質量部未満の比率で夫々を含有するものである。
請求項（抜粋）：
塩基性ガスを選択的に吸着除去するための吸着材であって、A成分としてTiおよびSiからなる二元系複合酸化物、TiおよびZrからなる二元系複合酸化物、並びにTi、SiおよびZrからなる三元系複合酸化物のいずれか1種以上のTi系複合酸化物を80質量部以上、B成分としてVの酸化物を1質量部以上で20質量部未満の比率で夫々を含有するものであることを特徴とする塩基性ガス吸着剤。
IPC (6件)：
B01J 20/06 ,  A61L 9/01 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/58 ,  B01D 53/86 ,  B01J 20/30
FI (7件)：
B01J 20/06 B ,  A61L 9/01 B ,  B01J 20/30 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 131 ,  B01D 53/36 E ,  B01D 53/36 H
Fターム (60件)：
4C080AA05 ,  4C080BB02 ,  4C080CC07 ,  4C080KK08 ,  4C080MM02 ,  4C080QQ17 ,  4D002AA13 ,  4D002AA14 ,  4D002BA04 ,  4D002CA07 ,  4D002DA11 ,  4D002DA21 ,  4D002EA08 ,  4D002GA01 ,  4D002GB08 ,  4D002GB11 ,  4D048AA08 ,  4D048AA17 ,  4D048AA22 ,  4D048AB01 ,  4D048BA23X ,  4D048BA25X ,  4D048BA26X ,  4D048BA27X ,  4D048BA28X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31X ,  4D048BA32X ,  4D048BA33X ,  4D048BA34X ,  4D048BA35X ,  4D048BA36X ,  4D048BA37X ,  4D048BA38X ,  4D048BA41X ,  4D048CD01 ,  4D048EA04 ,  4D048EA07 ,  4G066AA22A ,  4G066AA22B ,  4G066AA23A ,  4G066AA23B ,  4G066AA25A ,  4G066AA25B ,  4G066AA38A ,  4G066AA47A ,  4G066AA52A ,  4G066BA07 ,  4G066BA26 ,  4G066BA35 ,  4G066CA27 ,  4G066CA29 ,  4G066FA03 ,  4G066FA05 ,  4G066FA11 ,  4G066FA22 ,  4G066FA25 ,  4G066FA37 ,  4G066GA01 ,  4G066GA32
引用特許：
審査官引用 (1件)

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