特許

J-GLOBAL ID：200903022361529013

ネガ型レジスト組成物

発明者： 井上 昌章 ,  大田 利幸 ,  勇元 喜次 ,  三浦 孝夫
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-319742
公開番号（公開出願番号）：特開平5-134411
出願日： 1991年11月08日
公開日（公表日）： 1993年05月28日
要約：

【要約】【構成】アリルフェノールをモノマー成分として得られるアルカリ可溶性樹脂と感放射線性酸形成剤またはアジド基(-N3)含有化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。【効果】本発明のネガ型レジスト組成物は、位相シフトリソグラフィープロセスに好適であり、現像液による膨潤がなく、感度、解像度に優れたレジストとして好適に使用できる。

請求項（抜粋）：

アリルフェノールをモノマー成分として得られるアルカリ可溶性樹脂100重量部および感放射線性酸形成剤0.01〜15重量部を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/008 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/038 501 ,  H01L 21/027