特許
J-GLOBAL ID：200903022367148143
レーザービーム直接描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 伸司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-219992
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054420
出願日： 1997年07月30日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【課題】 長寿命化、低ランニングコスト化、装置の小型低価格化を図ることが可能なレーザービーム直接描画装置を提供することを主目的とする。【解決手段】 レーザー光を出力するレーザー光出力部と、フォトレジストが塗布された基板に対向可能に配置されレーザー光をフォトレジストに集光するための対物レンズ18とを備えているレーザービーム直接描画装置1において、レーザー光出力部は、固体レーザー3で構成されている。
請求項（抜粋）：
レーザー光を出力するレーザー光出力部と、フォトレジストが塗布された基板に対向可能に配置され前記レーザー光を当該フォトレジストに集光するための対物レンズとを備えているレーザービーム直接描画装置において、前記レーザー光出力部は、固体レーザーで構成されていることを特徴とするレーザービーム直接描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 505
, G03F 7/207
H01L 21/30 529
, G03F 7/20 505
, G03F 7/207 H
