特許

J-GLOBAL ID：200903022376467472

ポリマーシートの製造方法

発明者： 間口 挙秀 ,  吉田 敏雄 ,  神田 勝弘 ,  松下 美由紀 ,  金子 明裕
出願人/特許権者： ペンタックス株式会社 ,  フルイドウェアテクノロジーズ株式会社 ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (2件)： 梶山 佶是 ,  山本 富士男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-021720
公開番号（公開出願番号）：特開2005-214798
出願日： 2004年01月29日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：

【課題】 貫通穴を形成する際、“バリ”を生じないポリマーシートの製造方法を提供する。【解決手段】 複数個の貫通穴を有するポリマーシートの製造方法において、(a)基板上に塗布されたレジスト膜を所定のパターンを有するマスクを通して露光するステップと、(b)前記露光レジストを現像してマスターを形成するステップと、(c)前記マスターにポリジメチルシロキサン(PDMS)プレポリマー混合液を注入し、硬化させるステップと、(d)前記マスターから硬化PDMSモールドを剥離するステップと、(e)前記PDMSモールドをガラス基板に接着させるステップと、(f)前記PDMSモールド・ガラス基板接合体にPDMSプレポリマー混合液を注入し、硬化させるステップと、(g)前記PDMSモールド・ガラス基板接合体からPDMSモールドとガラス基板を引き剥がし、生成された貫通穴付きPDMSシートを回収するステップとからなることを特徴とするポリマーシートの製造方法。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

複数個の貫通穴を有するポリマーシートの製造方法において、 (a)基板上に塗布されたレジスト膜を所定のパターンを有するマスクを通して露光するステップと、 (b)前記露光レジストを現像してマスターを形成するステップと、 (c)前記マスターにポリジメチルシロキサン(PDMS)プレポリマー混合液を注入し、硬化させるステップと、 (d)前記マスターから硬化PDMSモールドを剥離するステップと、 (e)前記PDMSモールドをガラス基板に接着させるステップと、 (f)前記PDMSモールド・ガラス基板接合体にPDMSプレポリマー混合液を注入し、硬化させるステップと、 (g)前記PDMSモールド・ガラス基板接合体からPDMSモールドとガラス基板を引き剥がし、生成された貫通穴付きPDMSシートを回収するステップとからなることを特徴とするポリマーシートの製造方法。

IPC (3件)：

G01N37/00 ,  C12M1/00 ,  C12N5/06

FI (4件)：

G01N37/00 ,  G01N37/00 101 ,  C12M1/00 A ,  C12N5/00 E

Fターム (7件)：

4B029AA08 ,  4B029BB11 ,  4B029GA03 ,  4B029GB09 ,  4B065AA90X ,  4B065BC18 ,  4B065CA46

引用特許：

出願人引用 (2件)

• キャピラリーゲル電気泳動用マイクロチップおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-345050   出願人：理化学研究所
• 米国特許第5965237号明細書
  

審査官引用 (2件)

• 流体マイクロチップ用ブレッドボードを用いたアセンブリマイクロチップ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-207455   出願人：學校法人浦項工科大學校
• 微細加工型の製造方法及び微細パターンを有する成形体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-083914   出願人：三ツ星ベルト株式会社