特許

J-GLOBAL ID：200903022392812236

低電位還元水の製法とスケール除去方法

発明者： 智原 保孝 ,  神谷 正征
出願人/特許権者： 株式会社原子力エンジニアリング ,  智原 保孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-155336
公開番号（公開出願番号）：特開平11-325796
出願日： 1998年05月19日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】 機器のスケール除去を行なう。【解決手段】 全てのスケールを薬品洗浄とはせず、水のみ低電位還元水で、しかも、アルカリ水(機器の腐食防止が目的)状態で、常温常圧で循環しながらスケール等除去する。水は、低電位(-700〜-800mV)の還元された水で少クラスタ状態にあり、pH管理の為のヒドラジン以外の薬品は使用せずに、スケールを除去する方法である。

請求項（抜粋）：

工業用水(蒸留水,逆浸透膜,水も含む)から純水をベースにした導電率約1μS/cmの条件下で、重貴金属を含まない酸化還元電位が(-)400mV以下の還元水を用いて、熱交換器,ボイラー,蒸気発生器,ストレーナ,機器等に付着したスケールから錆まで除去する方法。

IPC (4件)：

F28G 9/00 ,  C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00 ,  F22B 37/52

FI (5件)：

F28G 9/00 L ,  C02F 5/00 610 B ,  C02F 5/00 610 F ,  C02F 5/00 610 E ,  F22B 37/52 A