特許

J-GLOBAL ID：200903022393761104

高純度シクロヘキサノールの製造方法

発明者： 手塚 真 ,  米盛 勉
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-034532
公開番号（公開出願番号）：特開平11-228472
出願日： 1998年02月17日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：

【要約】【課題】 ベンゼンを原料としてシクロヘキサノールを製造する方法において、不純物であるメチルシクロヘキサノールの量が低減されたシクロヘキサノールを製造する。【解決手段】 ベンゼンの部分水素化により得られた、シクロヘキセンを水和して主としてシクロヘキサノールと未反応シクロヘキセンからなる混合物を、主としてシクロヘキセンからなる成分と主としてシクロヘキサノールからなる成分に分離し、主としてシクロヘキセンからなる成分を水和工程に循環し、主としてシクロヘキサノールからなる成分を回収する際、シクロヘキセンに同伴するメチルシクロヘキセンに対するシクロヘキサノール中のメチルシクロヘキセンの重量比を1/300以上に制御する。

請求項（抜粋）：

(1)ベンゼンを水素化して、主成分として未反応ベンゼン、シクロヘキサンおよびシクロヘキセンを含有する反応混合物を得る水素化工程(2)水素化工程で得られた反応混合物を、それぞれ主成分としてベンゼン、シクロヘキサン、およびシクロヘキセンを含有する成分に分離する第1分離工程(3)第1分離工程で分離されたシクロヘキセンを主成分とする成分を水和してシクロヘキサノール及び未反応シクロヘキセンを主成分とする水和反応混合物を得る水和工程(4)水和反応混合物を、それぞれ主成分としてシクロヘキサノールを含有する成分と、主成分としてシクロヘキセンを含有する成分に分離する第2分離工程(5)第2分離工程から分離された主成分としてシクロヘキセンを含有する成分の少くとも一部を水和工程に循環させる循環工程を含むシクロヘキサノールの製造方法において、上記(4)第2分離工程において分離される主成分としてシクロヘキセンを含有する成分中の不純物メチルシクロヘキセン量に対する主成分としてシクロヘキサノールを含有する成分中のメチルシクロヘキセン量の重量比を1/300以上に制御することを特徴とする高純度シクロヘキサノールの製造方法。

IPC (10件)：

C07C 35/08 ,  B01J 23/60 ,  B01J 29/18 ,  B01J 29/40 ,  B01J 29/70 ,  C07C 29/04 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 5/11 ,  C07C 7/08 ,  C07C 13/20

FI (10件)：

C07C 35/08 ,  B01J 23/60 X ,  B01J 29/18 X ,  B01J 29/40 X ,  B01J 29/70 X ,  C07C 29/04 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 5/11 ,  C07C 7/08 ,  C07C 13/20