特許

J-GLOBAL ID：200903022409640256

着色ミクロパターンの形成方法

発明者： 田島 右副 ,  加藤 佳子 ,  根本 宏明 ,  別所 信夫
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-229072
公開番号（公開出願番号）：特開平8-075915
出願日： 1994年08月31日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】 十分な色濃度(OD)と高い寸法精度を有し膜強度の優れた着色ミクロパターンを簡便に形成する方法を提供する。【構成】 着色ミクロパターンの形成方法は、(1)顔料100重量部当たりアルカリ可溶性樹脂1〜20重量部を含有する熱硬化性組成物層を、透明基板に形成し、(2)該熱硬化性組成物層上にネガ型感放射線性組成物層を形成し、次いで(3)該ネガ型感放射線性組成物層に放射線を照射したのち、アルカリ現像することにより、放射線未照射部のネガ型感放射線性組成物層および放射線未照射部下部の熱硬化性組成物層を除去し、その後(4)残留する熱硬化性組成物層を熱硬化させることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

(1)顔料100重量部当たりアルカリ可溶性樹脂1〜20重量部を含有する熱硬化性樹脂組成物を、透明基板に塗布し、乾燥して、熱硬化性組成物層を形成したのち、(2)該熱硬化性組成物層上にアルカリ現像型のネガ型感放射線性樹脂組成物を塗布し、乾燥して、ネガ型感放射線性組成物層を形成し、次いで(3) ホトマスクを介して該ネガ型感放射線性組成物層に放射線を照射したのち、アルカリ現像することにより、放射線未照射部のネガ型感放射線性組成物層および放射線未照射部下部の熱硬化性組成物層を除去し、その後(4)残留する熱硬化性組成物層を熱硬化させることを特徴とする着色ミクロパターンの形成方法。

IPC (4件)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/26 ,  G03F 7/40