特許

J-GLOBAL ID：200903022411010600

フォトニック構造を有する周期構造体の製造方法

発明者： 今田 彩
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 加藤 一男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-120192
公開番号（公開出願番号）：特開2001-305359
出願日： 2000年04月21日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：

【要約】【課題】光波長程度の周期を持ち無欠陥或いは欠陥のあるフォトニック構造体として使用し得る屈折率周期構造体の簡易な製造方法である。【解決手段】光波長程度のサイズを有する一様な直径の球状粒子5の懸濁液を、受け部3、4を有する基板1上に滴下し、球状粒子5に荷重6を加えて受け部3、4内に球状粒子5を凝集させる事でフォトニック構造体を製造する。懸濁液に荷重6を加える事で受け部3、4内に球状粒子を最密充填できて、1次元、2次元ないし3次元のフォトニック構造体として使用できる屈折率周期構造が形成できる。

請求項（抜粋）：

光波長程度のサイズを有する一様な直径の球状粒子の懸濁液を、受け部を有する基板上に滴下し、該球状粒子に荷重を加えて該受け部内に球状粒子を凝集させる事でフォトニック構造体を製造することを特徴とするフォトニック構造体の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/12 ,  G02B 6/13

FI (2件)：

G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 M

Fターム (7件)：

2H047KA03 ,  2H047KA13 ,  2H047PA00 ,  2H047QA01 ,  2H047QA04 ,  2H047QA05 ,  2H047TA43