特許

J-GLOBAL ID：200903022463318238

導電体の形成方法及び磁気ヘッドの製造方法

発明者： 照井 聡 ,  菅野 佳弘 ,  小林 常雄
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-321045
公開番号（公開出願番号）：特開平10-149520
出願日： 1996年11月15日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：

【要約】【課題】 除去すべき不要めっき膜の除去残りが生じない導電体の形成方法及び磁気ヘッドの製造方法を提供すること。【解決手段】 基板1上に形成するリード線24、25、26、27及びこれらの先端に形成するパッド台座32a、32b、32c、32dを被覆するレジストカバー38以外のめっき膜34が連続するように形成する。これにより、ウエットエッチングによって不要部のめっき膜34を除去する際にエッチング液が除去部の全般に供給され、除去残りが防止される。

請求項（抜粋）：

支持体上に設けた導電層の不要部分を除去して所定パターンの導電体を形成するに際し、前記導電層のうち残されるべき第1部分と除去されるべき第2部分との間を間隙を介して区分し、この間隙を含めて前記第1部分の導電層をマスク層で被覆し、この被覆状態で前記第2部分を前記マスク層の形成領域の内側から外側へ連通させ、前記マスク層を用いて前記第2部分を選択的に除去する、導電体の形成方法。

IPC (3件)：

G11B 5/39 ,  G11B 5/31 ,  H01L 21/3205

FI (3件)：

G11B 5/39 ,  G11B 5/31 F ,  H01L 21/88 B