特許

J-GLOBAL ID：200903022477192105

テクスチャ加工液調製用組成物及びテクスチャ加工液

発明者： 山中 康夫 ,  服部 幸恵 ,  小林 博人 ,  佐藤 誠
出願人/特許権者： 協同油脂株式会社 ,  株式会社ノリタケカンパニーリミテド
代理人 (1件)： 中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-088646
公開番号（公開出願番号）：特開2000-282012
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：

【要約】【課題】 磁気ディスクのテクスチャ加工に使用するテクスチャ加工液調製用組成物、及びそれを用いたテクスチャ加工液を提供すること。【解決手段】 下記成分を含有するテクスチャ加工液調製用組成物。(A)炭素原子数10〜60のジカルボン酸、及び(B)該ジカルボン酸を中和、水溶化するのに必要な塩基性物質。

請求項（抜粋）：

下記成分を含有するテクスチャ加工液調製用組成物。(A)炭素原子数10〜60のジカルボン酸、及び(B)該ジカルボン酸を中和、水溶化するのに必要な塩基性物質。

IPC (4件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/84

FI (5件)：

C09K 3/14 550 C ,  C09K 3/14 550 J ,  C09K 3/14 550 M ,  B24B 37/00 H ,  G11B 5/84

Fターム (9件)：

3C058AA07 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA06 ,  5D112GA02 ,  5D112GA09