特許
J-GLOBAL ID:200903022486737785

ガス放電表示パネルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-089283
公開番号(公開出願番号):特開平7-296719
出願日: 1994年04月27日
公開日(公表日): 1995年11月10日
要約:
【要約】【目的】透明電極と補助電極のパターン形成を簡略な工程で高精度に行えるガス放電表示パネルの製造方法を提供する。【構成】透明導電膜20上に透明電極除去部31と補助電極形成部32が開口部となるようにフォトレジスト3をパターン化する。続いて、補助電極形成部32を充分に覆いかつ透明電極除去部31にかからないようにスクリーン印刷により銀電極形成用ペースト22及びその上に耐酸レジスト4を部分塗布する。次に、フォトレジスト3と耐酸レジスト4をマスクとして塩酸を用いたエッチングにより透明導電膜20のパターン化を行い透明電極21を形成する。その後、耐酸レジスト4及びフォトレジスト3を除去し、リフトオフにより銀電極形成用ペースト22のパターン化を行い銀電極23を形成し、銀電極23が積層された透明電極21を得る。
請求項(抜粋):
少くとも、透明の絶縁性基板と、この絶縁性基板上に形成された導電性の透明電極と、この透明電極上に積層形成された低抵抗の補助電極からなる複数の帯状電極と、この帯状電極を被覆する誘電体層と、この誘電体層上に形成された保護層とを有する交流駆動型のガス放電表示パネルの製造方法において、前記帯状電極の形成工程が、前記絶縁性基板上に透明導電膜を形成する工程と、この透明導電膜上にフォトレジストを塗布する工程と、このフォトレジストを露光,現像することにより前記透明導電膜を除去する部分と補助電極を形成する部分とを除去する工程と、この補助電極を形成する部分を充分に覆いかつ前記透明電極を除去する部分にかからないように補助電極材料を部分形成する工程と、この補助電極材料と前記フォトレジストをマスクとして前記透明導電膜をエッチングしパターン化して前記透明電極を形成する工程と、前記フォトレジストを除去すると同時に前記補助電極材料をリフトオフによりパターン化を行い前記補助電極を形成する工程とを含むことを特徴とするガス放電表示パネルの製造方法。
IPC (2件):
H01J 9/02 ,  H01J 11/02

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