特許
J-GLOBAL ID：200903022490384757
電子ビーム露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-332396
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166708
出願日： 1991年12月17日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 電子ビーム露光方法に関し,偏向歪みを補正する際のビームドリフトを除去して,信頼性の高いパターン補正を行うことを目的とする。【構成】 レンズ磁界の影響によってビーム偏向量がリニア成分からずれる偏向歪み量を,フィールド内の複数の点に位置検出用マークをステージ移動して該マークの位置を検出して歪み量を算出して補正する際に,該フィールド内の所定位置をビームドリフト測定点とし,歪み量測定中におけるビームドリフト量を該測定点のマーク位置ずれ量から算出し,該フィールド内の複数の点で求めたマーク位置ずれ量から該算出値を差し引いた値を真の歪み量として補正する,前記ビームドリフト測定は複数個の歪み測定点での測定前後で行い,各点のドリフト量は歪み測定前後で行ったドリフト量をリニア補間して算出し,各点で測定した歪み量から該算出値を差し引いた値を真の歪み量として補正するように構成する。
請求項（抜粋）：
レンズ磁界の影響によってビーム偏向量がリニア成分からずれる偏向歪み量を,フィールド内の複数の点に位置検出用マークをステージ移動して該マークの位置を検出して歪み量を算出して補正する際に,該フィールド内の所定位置をビームドリフト測定点とし,歪み量測定中におけるビームドリフト量を該測定点のマーク位置ずれ量から算出し,該フィールド内の複数の点で求めたマーク位置ずれ量から該算出値を差し引いた値を真の歪み量として補正することを特徴とする電子ビーム露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 341 K
, H01L 21/30 341 J
