特許
J-GLOBAL ID:200903022495032140

ジメチルエーテルの製造方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-061170
公開番号(公開出願番号):特開2004-285062
出願日: 2004年03月04日
公開日(公表日): 2004年10月14日
要約:
【課題】 副産物として生成されるメタノールを有効利用し、ジメチルエーテルの収率を上昇させることができるジメチルエーテルの製造方法を提供する。【解決手段】 一酸化炭素及び水素を含有する原料ガスを反応器に導入し、前記原料ガスを触媒反応させて、ジメチルエーテルを生成すると共に少なくともメタノールを副産物として生成するジメチルエーテルの製造方法において、生成されたメタノールを95質量%以上に純度を上昇させ、純度を上昇させた前記メタノールを前記反応器に戻す。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
一酸化炭素及び水素を含有する原料ガスを反応器に導入し、前記原料ガスを触媒反応させて、ジメチルエーテルを生成すると共に少なくともメタノールを副産物として生成するジメチルエーテルの製造方法において、 生成されたメタノールを95質量%以上に純度を上昇させ、純度を上昇させた前記メタノールを前記反応器に戻すことを特徴とするジメチルエーテルの製造方法。
IPC (2件):
C07C41/01 ,  C07C43/04
FI (2件):
C07C41/01 ,  C07C43/04 D
Fターム (22件):
4G140EA01 ,  4G140EA06 ,  4G140EB32 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC43 ,  4H006BA05 ,  4H006BA07 ,  4H006BA09 ,  4H006BA14 ,  4H006BA30 ,  4H006BA55 ,  4H006BA71 ,  4H006BD30 ,  4H006BD33 ,  4H006BD34 ,  4H006BE20 ,  4H006BE40 ,  4H006GN05 ,  4H006GP30 ,  4H039CA61 ,  4H039CL00
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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