特許
J-GLOBAL ID:200903022495920355
レベラー化合物
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
千田 稔
, 辻永 和徳
, 橋本 幸治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-157811
公開番号(公開出願番号):特開2004-250777
出願日: 2003年06月03日
公開日(公表日): 2004年09月09日
要約:
【課題】平坦あるいは均一な金属堆積物をもたらすように機能する化合物を提供する。【解決手段】イオウ、窒素およびイオウと窒素の組み合わせから選択される1つあるいはそれ以上のヘテロ原子を含む化合物、アルキレンオキシド化合物およびエピクロルヒドリンの反応性生物をレベラーとして銅めっき浴に添加する。これらの浴によるめっきは小さな開口を有する基板上に平坦化された銅層をもたらすことができる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
イオウ、窒素およびイオウと窒素の組み合わせから選択される1つあるいはそれ以上のヘテロ原子を含む化合物、アルキレンオキシド化合物および式(I)
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (7件):
4K023AA19
, 4K023BA07
, 4K023CB03
, 4K023CB07
, 4K023CB11
, 4K023CB28
, 4K023DA07
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