特許
J-GLOBAL ID：200903022505199358
光学ガラスブランク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-001585
公開番号（公開出願番号）：特開2001-192231
出願日： 2000年01月07日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：
【要約】【課題】 高温におけるガラスと型の融着、および、型の表面粗さの低下に伴う成形品の曇不良、更には、光学素子の製造に際しての離型性の向上を意図したガラスブランクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 プレス成形により光学素子を製造する際に用いられる光学ガラスブランクにおいて、主として炭素とフッ素よりなる薄膜で、その元素の構成比がF/C=0.4〜2であり、かつ、膜厚が1.5〜10nmである離型層が、ガラスブランク表面に形成されていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
プレス成形により光学素子を製造する際に用いられる光学ガラスブランクにおいて、主として炭素とフッ素よりなる薄膜で、その元素の構成比がF/C=0.4〜2であり、かつ、膜厚が1.5〜10nmである離型層が、ガラスブランク表面に形成されていることを特徴とする光学ガラスブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C03B 40/02
, C03B 11/00 Z
