特許
J-GLOBAL ID:200903022520108423
プラズマ装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-363082
公開番号(公開出願番号):特開平11-144892
出願日: 1997年11月12日
公開日(公表日): 1999年05月28日
要約:
【要約】【目的】液晶表示装置に用いられている薄膜トランジスタ素子を形成するプラズマCVD装置を大型化するときに問題となる、成膜の不均一性、薄膜トランジスタ界面のイオンダメージ、高速成膜による絶縁膜中の固定電荷の増大などを低減し、超大型アクティブマトリックス液晶表示装置の量産を実現する。【構成】ガラス基板に対向する放電電極が複数の電極から構成されており、それぞれの電極は、互いに極性の異なる高周波電圧を印加され横方向の放電を生じるように配置されている。反応ガスは、電極と電極のあいだから放出される。横電界の放電プラズマ中に放出されたガスは、プラズマ反応を生じた後ガラス基板側の方向に拡散し、ガラス基板に堆積する。
請求項(抜粋):
ガラス基板をのせるステージと前記ステージに水平に対向している放電電極から構成されているプラズマ発生装置において、前記放電電極が、複数の電極から構成されており、それぞれの電極は互いに極性の異なる高周波電圧を印加されステージに対して水平な横電界を形成し、横方向の放電が生じることを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (3件):
H05H 1/46
, C23C 16/50
, H01L 21/205
FI (3件):
H05H 1/46 A
, C23C 16/50
, H01L 21/205
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