特許

J-GLOBAL ID：200903022544090916

芳香族シアノメチルアミンの製造方法

発明者： 三浦 統生 ,  須山 右石 ,  近藤 英幸 ,  森川 宏平
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 矢口 平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-015106
公開番号（公開出願番号）：特開平10-204048
出願日： 1997年01月29日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：

【要約】【課題】 低い添加量のラネー触媒で芳香族ジニトリルの2つのニトリル基の一方のみを水素化し、芳香族シアノメチルアミンを製造する方法において、低温低圧下の反応で、芳香族ジニトリルを高転化率で反応させ、高収率で製造する。【解決手段】 溶媒中において水素雰囲気下で活性化させたニッケルおよび/またはコバルトを含有するラネー触媒を芳香族ジニトリルの0.1〜10重量%存在させ芳香族ジニトリルを水素還元することを特徴とする芳香族シアノメチルアミンの製造方法。

請求項（抜粋）：

溶媒中において水素雰囲気下で活性化させたニッケルおよび/またはコバルトを含有するラネー触媒を芳香族ジニトリルの0.1〜10重量%存在させ芳香族ジニトリルを水素還元することを特徴とする芳香族シアノメチルアミンの製造方法。

IPC (5件)：

C07C255/58 ,  B01J 25/00 ,  B01J 25/02 ,  C07C253/30 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07C255/58 ,  B01J 25/00 X ,  B01J 25/02 X ,  C07C253/30 ,  C07B 61/00 300