作業空間の清浄方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：吉嶺桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-292515
公開番号（公開出願番号）：特開平7-124435
出願日： 1993年10月29日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：

【要約】【目的】紫外線や放射線を照射しても微粒子が発生しない作業空間を創出できる作業空間の清浄方法を提供する。【構成】作業空間Gを清浄気体9の供給により清浄化する方法において、気体13に照射するエネルギーが5eV以上の紫外線5及び/又は放射線を照射して、前記気体中に含まれる水分を核として微粒子を発生Eさせ、該微粒子をフィルタによる捕集、吸着による捕集、及び光電子による荷電捕集Fの内より選ばれた少なくとも1種の方法により捕集した後、該清浄化された気体9を作業空間Gに供給することとした。

請求項（抜粋）：

作業空間を清浄気体の供給により清浄化する方法において、気体に照射するエネルギーが5eV以上の紫外線及び/又は放射線を照射して、前記気体中に含まれる水分を核として微粒子を発生させ、該微粒子をフィルタによる捕集、吸着による捕集、及び光電子による荷電捕集の内より選ばれた少なくとも1種の方法により捕集した後、該清浄化された気体を作業空間に供給することを特徴とする作業空間の清浄方法。

IPC (3件)：

B01D 53/32 , B01D 53/26 , B03C 3/38

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-243517
特開平4-243517
特公平3-065210

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