特許
J-GLOBAL ID:200903022589791427

2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸並びにアニオンポリマーを用いた、水性系におけるシリカ/ケイ酸塩析出の制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡部 正夫 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-269605
公開番号(公開出願番号):特開平5-104093
出願日: 1991年10月17日
公開日(公表日): 1993年04月27日
要約:
【要約】【構成】 2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸の有効量、好ましくは少なくとも0.1ppm 並びに、所望によりアニオンポリマー、好ましくはカルボン/スルホンポリマー、又はその塩を被処理水性系に添加することにより該水性系におけるシリカ/ケイ酸塩析出物の形成を制御する方法。ホウ酸又はモリブデン酸イオン源も併せて添加することができる。【効果】 水性系におるけシリカ/ケイ酸塩の析出を有効に制御することができる。
請求項(抜粋):
水性系に2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸又はその塩の有効量を添加することを特徴とする水性系におけるシリカ/ケイ酸塩析出の制御方法。
IPC (4件):
C02F 5/14 ,  C02F 5/08 ,  C02F 5/10 ,  C02F 5/12
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開平2-031894

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