特許

J-GLOBAL ID：200903022592951125

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品

発明者： 峯岸 知典
出願人/特許権者： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-048025
公開番号（公開出願番号）：特開2003-248314
出願日： 2002年02月25日
公開日（公表日）： 2003年09月05日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】従来からのフォトレジストが有する問題を解決し、感光性を付与するポリベンゾオキサゾール前駆体又はポリイミド前駆体がいかなる構造であっても充分に対応でき、しかも接着性、耐熱性に富んだポジ型感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)分子末端に熱で重合しうる官能基を持つ有機基を有するポリイミド前駆体又はポリオキサゾール前駆体であって、かつ分子中に、芳香環に結合しかつ-OR(但しRは酸の作用で分解し水素原子に変換し得る一価の有機基を示す)で示される基、または-COOR(但しRは酸の作用で分解し水素原子に変換し得る一価の有機基を示す)で示される基を有するポリイミド前駆体又はポリオキサゾール前駆体、(B)放射線照射により酸を発生する化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

(A)分子末端に熱で重合しうる官能基を持つ有機基を有するポリイミド前駆体又はポリオキサゾール前駆体であって、かつ分子中に、芳香環に結合しかつ-OR(但しRは酸の作用で分解し水素原子に変換し得る一価の有機基を示す)で示される基、または-COOR(但しRは酸の作用で分解し水素原子に変換し得る一価の有機基を示す)で示される基を有するポリイミド前駆体又はポリオキサゾール前駆体、(B)放射線照射により酸を発生する化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F299/02 ,  C08G 73/06 ,  C08G 73/10 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F299/02 ,  C08G 73/06 ,  C08G 73/10 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (58件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA10 ,  2H025AA13 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096EA03 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04 ,  4J027AD04 ,  4J027AH03 ,  4J027BA01 ,  4J027CC02 ,  4J027CD10 ,  4J043PA15 ,  4J043PA19 ,  4J043PB02 ,  4J043QB26 ,  4J043QB34 ,  4J043RA34 ,  4J043RA52 ,  4J043SA06 ,  4J043SA71 ,  4J043TA12 ,  4J043TA22 ,  4J043UA082 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UB061 ,  4J043UB062 ,  4J043UB121 ,  4J043UB122 ,  4J043YB02 ,  4J043YB08 ,  4J043YB13 ,  4J043ZB22 ,  4J043ZB50