特許
J-GLOBAL ID：200903022593057762
X線装置用温湿度制御装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-096955
公開番号（公開出願番号）：特開平7-280748
出願日： 1994年04月11日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：
【要約】【目的】 分流式湿度発生装置を用いた温湿度制御装置において、試料室内の湿度を安定して高精度に希望値に維持できるようにする。【構成】 試料4を気密に収容する試料室7と、試料室7内へ送り込まれる湿度保有ガスを発生する湿度発生装置22と、湿度発生装置22と試料室7とを気密に連結するガス輸送管23とを有するX線装置用温湿度制御装置である。湿度発生装置22は、ミキサー27によって乾燥ガスと湿度飽和ガスとを混合することにより、湿度保有ガスの湿度の大きさを調節する分流式湿度発生装置である。湿度発生装置22内の温度と試料室7内の温度とが互いに等しい温度を維持するようにヒータ線41及び16を制御する。試料室7内において、温度変化に起因する湿度変化が防止されて湿度が安定して高精度に制御される。
請求項（抜粋）：
X線装置に装着された試料のまわりの温度及び湿度を調節するための温湿度制御装置であって、試料を気密に収容する試料室と、その試料室内へ送り込むための湿度保有ガスを発生する湿度発生手段と、湿度発生手段と試料室との間を気密に連結するガス輸送管とを有するX線装置用温湿度制御装置において、上記湿度発生手段は、ミキサーによって乾燥ガスと湿度飽和ガスとを混合することにより、上記湿度保有ガスの湿度の大きさを調節する分流式湿度発生装置であり、そして湿度発生手段内の温度と試料室内の温度とが互いに等しい温度を維持するように制御されることを特徴とするX線装置用温湿度制御装置。
引用特許：
前のページに戻る
