特許
J-GLOBAL ID:200903022594569481

ジルコニウム合金を含む構成部材、該構成部材の製造方法、および該構成部材を含む核プラント

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浅村 皓 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-569825
公開番号(公開出願番号):特表2003-528328
出願日: 2001年03月20日
公開日(公表日): 2003年09月24日
要約:
【要約】本発明は、酸化ジルコニウムから成る腐食保護層(4)が上に形成されている表面(3)を有する、ジルコニウムまたはジルコニウム合金を含んでいる要素(2)を含む構成部材(1)に関する。構成部材(1)は酸化性環境(6)の中に存在することが目的とされ、そして該酸化物層(4)は該酸化性環境(6)の方に向いている外表面(5)を有する。要素(2)は該表面(3)に接する層(10)を含み、そして該層(10)は、水素、並びにランタン族元素の群および/または白金族金属および/またはイットリウムの群からの、元素状態で、または酸化物として、酸素およびH2Oを効果的に解離する能力を有する少なくとも1種の金属を含む。本発明は、また、構成部材(1)の製造方法、および構成部材(1)を含む核施設にも関する。
請求項(抜粋):
酸化ジルコニウムを含む腐食保護酸化物層(4)が上に形成されている表面(3)を有する、ジルコニウムまたはジルコニウム合金を含んでいる要素(2)を含む構成部材(1)であって、この構成部材(1)は酸化性環境(6)の中に存在することが目的とされ、そして該酸化物層(4)は該酸化性環境(6)の方に向いている外表面(5)を有するそのような構成部材(1)において、上記要素(2)は該表面(3)に接する少なくとも1つの層(10)を含み、そして少なくとも1つの該層(10)は、水素、並びにランタン族元素の群および/または白金族金属および/またはイットリウムの群からの、元素状態で、または酸化物として、O2およびH2Oを効果的に解離する能力を有する少なくとも1種の金属を含むことを特徴とする上記の構成部材(1)。
IPC (4件):
G21C 3/06 ,  C23C 8/08 ,  C23C 30/00 ,  G21C 3/20
FI (5件):
C23C 8/08 ,  C23C 30/00 A ,  G21C 3/20 G ,  G21C 3/06 B ,  G21C 3/06 G
Fターム (9件):
4K044AA06 ,  4K044AB03 ,  4K044BA01 ,  4K044BA08 ,  4K044BB01 ,  4K044BB03 ,  4K044BC02 ,  4K044CA12 ,  4K044CA53
引用特許:
審査官引用 (8件)
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