特許
J-GLOBAL ID:200903022605639274

フォトパターン化可能な吸収剤及び官能性化膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  松山 美奈子
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-539407
公開番号(公開出願番号):特表2004-521373
出願日: 2001年10月31日
公開日(公表日): 2004年07月15日
要約:
ポリマー、架橋剤及び光活性化可能な触媒を含む組成物を基体上に置く。組成物を所定パターンの光に露光させて、未露光領域を残す。光は、ヒドロシリル化によりポリマーを架橋させる。溶剤を用いて、基体から未露光組成物を除去し、露光パターンを残し、ある化学種に暴露された場合に所定の化学種を吸収する吸収剤ポリマー膜とする。
請求項(抜粋):
化学的選択性吸収剤膜を形成する方法であって、 基体上に、少なくとも2個のシリコンヒドライド基を含む第1の前駆体分子と、少なくとも2個の炭素-炭素多重結合を含む第2の前駆体分子と、光活性化可能な触媒と、を含む組成物を置く工程と 該組成物にヒドロシリル化反応を引き起こさせるに十分な量で、あるタイプの光に、該組成物の少なくとも一部を露光させる工程と、 を備え、該組成物を化学的選択性吸収剤膜にする方法。
IPC (4件):
G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038
FI (6件):
G03F7/075 501 ,  G03F7/075 511 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 511 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 501
Fターム (14件):
2H025AA02 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC19 ,  2H025BC23 ,  2H025BC42 ,  2H025BC78 ,  2H025BC83 ,  2H025BH04 ,  2H025CC06 ,  2H025CC20 ,  2H025DA35 ,  2H025EA01
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開平4-005658
  • 特開昭62-294239
  • 特表平6-503594
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-005658
  • 特開昭62-294239
  • 特表平6-503594

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