種子及びその他の生物の低温-プラズマ堆積処理

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-504208
公開番号（公開出願番号）：特表2003-502066
出願日： 2000年06月23日
公開日（公表日）： 2003年01月21日
要約：

【要約】種子等の生物を、前記生物を低温プラズマに暴露して、前記生物の表面にプラズマ反応堆積物を形成することにより処理する。プラズマ処理は、生物及びその他の適切な生物の生存度に有意な影響を与えることのない条件下で行うことができ、かつ、前記処理過程の間、種子内の水分レベルを維持するために又は減少させるために行うことができる。本発明の方法の実施において、ガスは、プラズマ反応により堆積物を形成するガスソースから供給される。低温プラズマはガス中で点火され、前記生物は、プラズマ反応堆積物がプラズマに暴露された表面に形成するために選択した時間、プラズマへ暴露される。プラズマ処理に暴露される間、前記生物を回転させて、前記生物の表面上に堆積物が均一に形成することを許容してもよい。

請求項（抜粋）：

生物の表面の性質を増強するための、生物の処理方法であって、 (a)プラズマ反応により堆積物を形成するガスソースから、ガス中で低温プラズマを点火する工程、及び、 (b)該生物を、該プラズマへ、プラズマ反応堆積物が該生物の表面に形成するために選択した時間暴露する工程、を含むことを特徴とする方法。

IPC (3件)：

A01C 1/00 , A01C 1/06 , A01G 7/00 604

FI (4件)：

A01C 1/00 C , A01C 1/00 U , A01C 1/06 Z , A01G 7/00 604 Z

Fターム (11件)：

2B022AA01 , 2B022DA19 , 2B051AA02 , 2B051AB01 , 2B051BA01 , 2B051BA02 , 2B051BA03 , 2B051BA06 , 2B051BA15 , 2B051BB09 , 2B051BB14

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