特許
J-GLOBAL ID:200903022613151370

酸化チタン薄膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 勇 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-216082
公開番号(公開出願番号):特開平10-046317
出願日: 1996年07月29日
公開日(公表日): 1998年02月17日
要約:
【要約】【課題】 過酸化水素水溶液からのディップ法により、膜厚が均一でかつ高精度で制御可能であるような酸化チタン薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】 基板をアモルファス酸化チタンの過酸化水素水溶液中に浸漬させ、さらに熱処理を行なうことによって該基板の表面に酸化チタン薄膜を形成する方法において、前記アモルファス酸化チタンの過酸化水素水溶液の粘度を3cp以下とすることにより、基板面内で厚さの均一な薄膜を得る。
請求項(抜粋):
基板をアモルファス酸化チタンの過酸化水素水溶液中に浸漬させ、さらに熱処理を行なうことによって該基板の表面に酸化チタン薄膜を形成する方法において、前記アモルファス酸化チタンの過酸化水素水溶液の粘度を3cp以下とすることにより、基板面内で厚さの均一な薄膜を得ることを特徴とする酸化チタン薄膜の製造方法。
IPC (4件):
C23C 8/10 ,  B01J 19/00 ,  C01G 23/04 ,  C03C 17/25
FI (4件):
C23C 8/10 ,  B01J 19/00 K ,  C01G 23/04 C ,  C03C 17/25 A

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