特許

J-GLOBAL ID：200903022622855282

電気光学パネル用基板の検査方法、電気光学パネル用基板の製造方法、電気光学パネル用基板、電気光学装置および電子機器

発明者： 浅賀 恒行
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-277962
公開番号（公開出願番号）：特開2004-117062
出願日： 2002年09月24日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】電気光学装置に用いられるカラーフィルタ基板の製造方法において、定量的かつ効率的な検査方法および修正方法を実施することにより、高品位なカラーフィルタ基板を提供することを目的とする。【解決手段】複数のドットによって一画素が構成されてなる電気光学パネル用基板の製造方法は、前記基板上面の凹凸形状を検査し、第1の欠陥データを出力する第1の検査工程と、前記基板の光学特性を検査し、第2の欠陥データを出力する第2の検査工程と、前記第1の欠陥データと前記第2の欠陥データとを複合して複合欠陥データを生成するデータ複合工程と、前記複合欠陥データに基づいて、前記基板上の欠陥を修正する修正工程と、有する電気光学パネル用基板の検査方法が提供される。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

複数のドットによって一画素が構成されてなる電気光学パネル用基板の製造方法であって、 前記基板上面の凹凸形状を検査し、第1の欠陥データを出力する第1の検査工程と、 前記基板の光学特性を検査し、第2の欠陥データを出力する第2の検査工程と、 前記第1の欠陥データと前記第2の欠陥データとを複合して複合欠陥データを生成するデータ複合工程と、 前記複合欠陥データに基づいて、前記基板上の欠陥を修正する修正工程と、有することを特徴とする電気光学パネル用基板の検査方法。

IPC (5件)：

G01N21/958 ,  G01B11/30 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1335 ,  G09F9/00

FI (6件)：

G01N21/958 ,  G01B11/30 A ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/13 505 ,  G02F1/1335 505 ,  G09F9/00 352

Fターム (31件)：

2F065AA49 ,  2F065CC25 ,  2F065FF44 ,  2F065GG04 ,  2F065HH12 ,  2G051AA73 ,  2G051AB02 ,  2G051AB10 ,  2G051AC02 ,  2G051BA01 ,  2G051BA10 ,  2G051CA04 ,  2G051CB05 ,  2G051EA16 ,  2H088EA22 ,  2H088FA13 ,  2H088FA14 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  2H091FA02Y ,  2H091FC30 ,  2H091GA01 ,  2H091LA30 ,  2H091MA10 ,  5G435AA19 ,  5G435BB12 ,  5G435CC09 ,  5G435GG12 ,  5G435KK10 ,  5G435LL07 ,  5G435LL08