特許

J-GLOBAL ID：200903022623540463

電気光学素子の製造装置及び製造方法

発明者： 関 治利
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-019132
公開番号（公開出願番号）：特開2001-209033
出願日： 2000年01月27日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：

【要約】【課題】 基板に悪影響を与えることなく基板に対して均一な熱処理を行うことができる電気光学素子の製造装置及び製造方法を提供する。【解決手段】 可撓性を有する材料からなり、熱処理の対象となる基板を載置するための熱処理用板1cと、前記熱処理用板に接触する熱媒体2とを備える。前記熱処理用板が前記基板の自重により変形して、前記熱処理用板が前記基板に接触する面積が増加する。

請求項（抜粋）：

可撓性を有する材料からなり、熱処理の対象となる基板を載置するための熱処理用板を備え、前記熱処理用板が前記基板の自重により変形して、前記熱処理用板が前記基板に接触する面積が増加することを特徴とする電気光学素子の製造装置。

IPC (2件)：

G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/13 101

FI (2件)：

G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/13 101

Fターム (6件)：

2H088FA20 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H090JB03 ,  2H090JC08 ,  2H090JD14